硅片回收的再利用情况

其实不用说大家都知道要如何来对硅片回收进行再利用。其实在我们使用硅片的时候往往他会产生比较多的废水，要是我们能够把这个问题解决好的话，那相信我们的硅片回收还能够再进一步。我们还可以对硅片回收进行改造，只是说这个过程可能大家并不是那么的熟悉和了解，但是这些方面的问题我们都能够进一步的去解决和调整。不管进行什么操作我们都应该要明确我们的作业目的和要求，不然的话还是会出现问题的。

金属硅（1提纯）→高纯多晶硅—（2掺杂铸造或拉晶）→多晶硅锭/锭—（3切片）→硅片—（4制绒、扩散、印刷）→电池片—（5层压、封装）→电池组件—（6配套连接、安装）→光伏发电系统。

其中，提纯的环节是技术难度的环节。有冶金法和化学法两种方式。

后段工序对设备要求较高

硅料包含单晶硅和多晶硅等，单晶硅有;单晶边皮、头尾、棒、锅底料等，多晶硅有：原生多晶硅、多晶边皮、多晶方锭等。

硅片回收，就是对硅片进行回收，以便进行硅的二次利用，从而避免其污染环境，并能够提高硅的利用率。

硅片回收及加工过程，包括了很多步骤，但总的要求是：

(1)能够修正一些物理性能，包括尺寸、形状、平整度等方面；

(2)避免出现表面损伤，消除表面的脏污或者颗粒。

它的工序，主要有：

切片：就是将硅棒切成薄硅片，具有一定的几何尺寸。

退火：让硅片表面发生氧化反应，通过氧化炉，使其表面形成二氧化硅保护层。

倒角：硅片进行修整，修整成圆弧形，避免产生缺陷，增加其平坦度。

对硅片行业稍微有些了解的人都应该知道，废硅片回收之后是必须要清洗的，而且我们还要对清洗过程给予必要的重视，不能马马虎虎，因为硅片回收清洗的效率将直接影响到器件的成品率、性能和可靠性。下面我们就来了解一下费硅片回收清洗的重要性。

现在人们已研制出了很多种可用于废硅片回收清洗的工艺方法和技术，常见的有：湿法化学清 洗、超声清洗法、兆声清洗法、鼓泡清洗法、擦洗法、高压喷射法、离心喷射法、流体力学法、流体动力学法、干法清洗、微集射束流法、激光束清洗、冷凝喷雾技 术、气相清洗、非浸润液体喷射法、废硅片回收在线真空清洗技术、RCA标准清洗、等离子体清洗、原位水冲洗法等。这些方法和技术现已广泛应用于废硅片回收 加工和器件制造中的废硅片回收清洗。

表面沾污指硅表面上沉积有粒子、金属、有机物、湿气分子和自然氧化物等的一种或几种。超纯表面定义为没有沾污的表面, 或者是超出检测量极限的表面。